Nenovision Litescope AFM-in-SEM - Misura gratuita sul tuo campione! Aprile – Maggio 2019

Venerdì 22 Marzo 2019
Nenovision Litescope AFM-in-SEM

Scopri le potenzialità del Nenovision AFM LiteScope™ 

  • AFM progettato in maniera specifica per una facile integrazione con il SEM
  • Un'ampia gamma di applicazioni nel campo delle Scienze dei Materiali e delle Nanotecnologie, Industria dei Semiconduttori e Scienze della vita
  • Tecnica unica di microscopia correlativa: CPEM™
  • Interfaccia web intuitiva e di facile utilizzo

Per prenotare la tua misura e/o per ottenere maggior informazioni contattaci!

Quali sono i vantaggi?
  • Una grande opportunità per scoprire i vantaggi dell'AFM-in-SEM in relazione alla mia applicazione
  • Approccio individuale
  • Campione misurato con la tecnica unica del CPEM™
  • Verrà consegnato un documento con la descrizione e la spiegazione dei risultati ottenuti nella misura
  • Ulteriore discussione via Skype sulla misura e sui risultati 
Perchè l'AFM-in-SEM ?
  • Preciso posizionamento della punta AFM sulla regione di interesse grazie al SEM
  • Topografia 3D in-situ e profilazione in altezza/profondità di strutture selezionate
  • Contrasto materiale vs. topografia
  • Misura della rugosità
Preciso posizionamento della punta AFM sulla regione di interesse grazie al SEM
Topografia 3D in-situ e profilazione in altezza/profondità di strutture selezionate
Contrasto materiale vs. topografia
Misura della rugosità
Che cos'è la Correlative Probe and Electron Microscopy CPEM™?

La tecnologia CPEM è la prima di questo tipo ad approdare sul mercato. Permette di prendere misure AFM e SEM nello stesso punto, nello stesso momento, e con lo stesso sistema di riferimento. Solo la tecnologia CPEM fornisce tutti i vantaggi dell'imaging delle tecniche AFM e SEM.

  • CPEM fornisce una correlazione multidimensionale dell'imaging – le immagini prese da un SEM vengono estese in una vista 3D.
  • Utilizzando la CPEM, è possibile distinguere velocemente e accuratamente il contrasto topografico e di materiale nelle immagini SEM.
  • CPEM correla, in maniera adeguata, due o più segnali SEM con la topografia misurata, come per esempio SE, BSE, EBIC, CL, ecc.
  • CPEM rende possibile misurare il campione simultaneamente con AFM e con SEM nelle medesime condizioni, alla medesima velocità di misura, ecc.
  • Un sistema di scansione combinato AFM e SEM permette una accurata correlazione di immagine, l'eliminazione di effetti di drift e altre inesattezze.
Correlative Probe and Electron Microscopy CPEM™
Esempi di Applicazioni
Semiconduttori, celle solari, sistemi di memorizzazione, MEMS e NEMS.
Caratterizzazione di superfici fresate con FIB o depositate tramite GIS – topografia 3D in-situ e profilazione altezza/profondità di strutture selezionate
Caratterizzazione di materiali compositi – proprietà meccaniche, dissipazione di energia, propagazione di fratture
Caratterizzazione di nanostrutture - materiali 0D, 1D, 2D

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