Metallizzatore Ion Sputter Coater - Per il tuo SEM
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Il metallizzatore G10 applica il vuoto all'interno di una camera, e riveste (tramite deposizione di oro) la superficie di un campione non conduttivo, tramite ioni rilasciati da un target Au, generati da una scarica di plasma a bassa tensione.
Lo scopo è quello di rendere conduttiva la superficie di un campione, non conduttivo o di debole conducibilità, grazie al sottile film metallico formatosi a seguito della deposizione.
La deposizione può essere ottenuta anche con un target di platino (Pt). Una volta effettuato questo trattamento il campione potrà essere analizzato con il vostro SEM.
Siamo in grado di fornire due tipologie di metallizzatori (Ion Sputtering Coaters). I vantaggi principali di questi modelli sono le dimensioni ridotte, la facilità d'uso e il prezzo vantaggioso.
Lo scopo è quello di rendere conduttiva la superficie di un campione, non conduttivo o di debole conducibilità, grazie al sottile film metallico formatosi a seguito della deposizione.
La deposizione può essere ottenuta anche con un target di platino (Pt). Una volta effettuato questo trattamento il campione potrà essere analizzato con il vostro SEM.
Siamo in grado di fornire due tipologie di metallizzatori (Ion Sputtering Coaters). I vantaggi principali di questi modelli sono le dimensioni ridotte, la facilità d'uso e il prezzo vantaggioso.
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Componenti del sistema
Metallizzatore - Ion Sputter Coater
- Camera in vetro temperato (rimovibile)
- Sistema con dimensioni e peso (10Kg) contenuti
- Funzioni predefinite disponibili tramite pulsanti sul fronte del dispositivo
Pompa per il vuoto - "Pompa rotativa a olio" - opzionale
- Velocità di pompaggio: 100 l/min
Materiale di rivestimento "Au o Pt"
- Au(4N): 50mm(D)
- Pt(3N5) : 50mm(D)
Accessori - "Manuale, tubo flessibile, cavo"
- Manuale (Installazione/Guida rapida)
- Clamp
- Tubo per vuoto da 1,5 m
- Cavo di alimentazione
Funzioni
Pulsanti
- POWER: interruttore di alimentazione principale dell'apparecchiatura
- LOW: rivestimento 20 sec (rivestimento: ± 15 nm)
- MEDIUM: rivestimento 40 sec (rivestimento: ± 23 nm)
- HIGH: rivestimento 60 sec (rivestimento: ± 30 nm)
Processo di rivestimento
- Premere il pulsante di accensione, il modello G10 funziona nell'alimentazione
- L'utente può scegliere tra le modalità LOW, MEDIUM, HIGH per far partire in automatico il processo di formazione del vuoto e lo sputtering di Ion Plasma entro 2 minuti.
- Dopo il rivestimento, il vuoto viene ventilato automaticamente ed è possibile accedere al campione per controllarne lo stato.
Spessore del rivestimento
Caratteristiche Tecniche
- Automated Coating by one button click
- Fast and simple Coater: put the sample in the chamber and coat it just by pushing the Start Button
- Time of procedure completion: within 2 min. from start to Coating
- Set Coating conditions: 3 steps (20, 40, 60sec)
- 7 pieces of Sample Stub (Φ14㎜) mounting together in chamber
- Minimized installation space thanks to the compact size
Modello | G10 |
|---|---|
Corrente Ionica | 38mA (Fissa) |
Materiale dei target | Au o Pt |
Dimensione camera | 140mm(D) x 70mm(H) |
Portacampione | 50mm(D) x 25mm(H) |
Dimensione campione | 50mm(D) |
Tempo di sputtering | 20sec, 40sec, 60sec (3 processi disponibili) |
Pompa per il vuoto (opzionale) | 100L/min, Pompa Rotativa |
Alimentazione | 220VAC ±10%, 50/60Hz |
Dimensioni | Corpo macchina : 380(L)x240(P)x235(A) mm, 10kg |