G10

Metallizzatore Ion Sputter Coater - Per il tuo SEM
Categoria: 
Metallizzatori - Ion Sputter Coaters
Il metallizzatore G10 applica il vuoto all'interno di una camera, e riveste (tramite deposizione di oro) la superficie di un campione non conduttivo, tramite ioni rilasciati da un target Au, generati da una scarica di plasma a bassa tensione.
Lo scopo è quello di rendere conduttiva la superficie di un campione, non conduttivo o di debole conducibilità, grazie al sottile film metallico formatosi a seguito della deposizione.
La deposizione può essere ottenuta anche con un target di platino (Pt). Una volta effettuato questo trattamento il campione potrà essere analizzato con il vostro SEM.
Siamo in grado di fornire due tipologie di metallizzatori (Ion Sputtering Coaters). I vantaggi principali di questi modelli sono le dimensioni ridotte, la facilità d'uso e il prezzo vantaggioso.
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Video

Metallizzatore Ion Sputtering Coater - Modello G10

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23/08/2026
Preparazione del campione e osservazione SEM, in una soluzione compatta e completa
Componenti del sistema

Metallizzatore - Ion Sputter Coater 

  • Camera in vetro temperato (rimovibile)
  • Sistema con dimensioni e peso (10Kg) contenuti
  • Funzioni predefinite disponibili tramite pulsanti sul fronte del dispositivo

Pompa per il vuoto - "Pompa rotativa a olio" - opzionale

  • Velocità di pompaggio: 100 l/min

Materiale di rivestimento "Au o Pt"

  • Au(4N): 50mm(D)
  • Pt(3N5) ​​: 50mm(D)

Accessori - "Manuale, tubo flessibile, cavo"

  • Manuale (Installazione/Guida rapida)
  • Clamp
  • Tubo per vuoto da 1,5 m
  • Cavo di alimentazione
Funzioni

Pulsanti

  1. POWER: interruttore di alimentazione principale dell'apparecchiatura
  2. LOW: rivestimento 20 sec (rivestimento: ± 15 nm)
  3. MEDIUM: rivestimento 40 sec (rivestimento: ± 23 nm)
  4. HIGH: rivestimento 60 sec (rivestimento: ± 30 nm)

Processo di rivestimento

  1. Premere il pulsante di accensione, il modello G10 funziona nell'alimentazione
  2. L'utente può scegliere tra le modalità LOW, MEDIUM, HIGH per far partire in automatico il processo di formazione del vuoto e lo sputtering di Ion Plasma entro 2 minuti.
  3. Dopo il rivestimento, il vuoto viene ventilato automaticamente ed è possibile accedere al campione per controllarne lo stato.
Spessore del rivestimento

Caratteristiche Tecniche

  1. Automated Coating by one button click
  2. Fast and simple Coater: put the sample in the chamber and coat it just by pushing the Start Button
  3. Time of procedure completion: within 2 min. from start to Coating
  4. Set Coating conditions: 3 steps (20, 40, 60sec)
  5. 7 pieces of Sample Stub (Φ14㎜) mounting together in chamber
  6. Minimized installation space thanks to the compact size

Modello

G10

Corrente Ionica

38mA (Fissa)

Materiale dei target

Au o Pt

Dimensione camera

140mm(D) x 70mm(H)

Portacampione

50mm(D) x 25mm(H)

Dimensione campione

50mm(D)

Tempo di sputtering

20sec, 40sec, 60sec (3 processi disponibili)

Pompa per il vuoto (opzionale)

100L/min, Pompa Rotativa

Alimentazione

220VAC ±10%, 50/60Hz

Dimensioni

Corpo macchina : 380(L)x240(P)x235(A) mm, 10kg
Pompa : 454(L)x170(P)x240(A) mm, 23kg
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