Questa apparecchiatura utilizza una scarica al plasma magnetico per rilasciare ioni da un target in oro (opzionali Pt/Ag/Pd), che vengono successivamente depositati sulla superficie del campione formando un sottile rivestimento.
Il sistema è completamente automatizzato e consente di eseguire l’intero processo — generazione del vuoto, rivestimento al plasma e ventilazione — con la semplice pressione di un pulsante. Sono disponibili tre modalità di rivestimento: 20 secondi (LOW), 40 secondi (MEDIUM) e 60 secondi (HIGH). Una volta raggiunto il livello di vuoto preimpostato, la scarica al plasma si avvia automaticamente.
Grazie al design compatto, l’apparecchiatura richiede uno spazio di installazione minimo e può essere facilmente spostata in pochi minuti. Offre un’area di rivestimento di circa Ø50 mm ed è dotata di regolazione sull’asse Z, consentendo il posizionamento e la regolazione di campioni con un’altezza fino a 30 mm.
GSEM Coater semplice e intuitivo
Funzionamento completamente automatizzato con un solo pulsante
Comandi intuitivi, progettati per un utilizzo rapido e semplice anche da parte di utenti alle prime armi
Funzioni essenziali a un prezzo competitivo
Progettato per offrire tutte le funzionalità fondamentali richieste per lo sputtering ionico
Le funzioni non necessarie o utilizzate raramente sono state eliminate per ridurre i costi e offrire un prezzo più conveniente
Design ultra-compatto per ottimizzare lo spazio
Installazione rapida in circa 5 minuti con alimentazione standard a 220 V
Dimensioni compatte, adatte anche all’installazione all’interno di una glove box
Peso di circa 8 kg per facilitare lo spostamento e garantire la massima flessibilità di posizionamento
Il G5 è particolarmente indicato per l’utilizzo con microscopi SEM a filamento di tungsteno (W), come Tabletop SEM e SEM convenzionali.
Grazie alle dimensioni compatte, il G5 rappresenta una soluzione economica che riduce sia il costo iniziale di acquisto sia i costi di gestione operativa.
Completamento automatico dell’intero processo
Controllo automatico della corrente di coating fino a 50 mA
Target in Pt da Ø35 mm, per un’area di rivestimento fino a Ø50 mm
Possibilità di rivestire contemporaneamente fino a 7 sample stub da Ø14 mm
Dall’installazione all’utilizzo in soli 10 minuti
L’installazione può essere completata in circa 5 minuti, collegando l’alimentazione principale, la pompa da vuoto e il relativo tubo.
Per avviare il processo è sufficiente selezionare uno dei tre pulsanti: Low (20 s), Medium (40 s) o High (60 s).
Dalla formazione del vuoto al coating finale, l’intero processo è completamente automatizzato.
Configurazione compatta e ottimizzazione dello spazio
Grazie alla tecnologia magnetron, il G5 consente di rivestire rapidamente campioni conduttivi riducendo il rischio di danni termici.
Può essere installato anche in spazi molto ridotti.
Con un peso di circa 8 kg, può essere facilmente spostato e riposizionato.
Il principale materiale di consumo è il target in platino.
Caratteristiche Tecniche
Specifiche
Tipo di sputtering
Magnetron a scarica a diodo
Vuoto operativo
1,0–2,0 × 10⁻¹ torr
Tempo di vuoto
Circa 2 minuti
Corrente ionica
Max. 50 mA
Materiale target
Pt (incluso) – Opzionale: Au / Ag / Pd
Dimensioni target
Ø35 mm (diametro)
Dimensioni camera
Ø96 mm (D) × 91 mm (H)
Stage (D/H)
Ø50 mm (D) × 30 mm (H)
Pompa
Rotativa: 5 CFM (142 L/min)
Tempo di coating
Low (20 s), Medium (40 s), High (60 s) / 3 modalità
Dimensioni / Peso
Unità principale: 266 (L) × 230 (P) × 254 (H) mm, 8 kg; Pompa: 338 (L) × 138 (P) × 244 (H) mm, 10,4 kg
Questa apparecchiatura utilizza una scarica al plasma magnetico per rilasciare ioni da un target in oro (opzionali Pt/Ag/Pd), che vengono successivamente depositati sulla superficie del campione formando un sottile rivestimento.
Il sistema è completamente automatizzato e consente di eseguire l’intero processo — generazione del vuoto, rivestimento al plasma e ventilazione — con la semplice pressione di un pulsante. Sono disponibili tre modalità di rivestimento: 20 secondi (LOW), 40 secondi (MEDIUM) e 60 secondi (HIGH). Una volta raggiunto il livello di vuoto preimpostato, la scarica al plasma si avvia automaticamente.
Grazie al design compatto, l’apparecchiatura richiede uno spazio di installazione minimo e può essere facilmente spostata in pochi minuti. Offre un’area di rivestimento di circa Ø50 mm ed è dotata di regolazione sull’asse Z, consentendo il posizionamento e la regolazione di campioni con un’altezza fino a 30 mm.
GSEM Coater semplice e intuitivo
Funzioni essenziali a un prezzo competitivo
Design ultra-compatto per ottimizzare lo spazio
Video
News, eventi, promo, webinar
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Dall’installazione all’utilizzo in soli 10 minuti
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Caratteristiche Tecniche
Tipo di sputtering
Magnetron a scarica a diodo
Vuoto operativo
1,0–2,0 × 10⁻¹ torr
Tempo di vuoto
Circa 2 minuti
Corrente ionica
Max. 50 mA
Materiale target
Pt (incluso) – Opzionale: Au / Ag / Pd
Dimensioni target
Ø35 mm (diametro)
Dimensioni camera
Ø96 mm (D) × 91 mm (H)
Stage (D/H)
Ø50 mm (D) × 30 mm (H)
Pompa
Rotativa: 5 CFM (142 L/min)
Tempo di coating
Low (20 s), Medium (40 s), High (60 s) / 3 modalità
Dimensioni / Peso
Unità principale: 266 (L) × 230 (P) × 254 (H) mm, 8 kg; Pompa: 338 (L) × 138 (P) × 244 (H) mm, 10,4 kg
Alimentazione
Unità principale: 110–220 VAC ±10%, 50–60 Hz; Pompa: 220 VAC ±10% (solo)