IG70-XY-DP

Cannone a Ioni per Sputtering
Produttore: 
OCI Vacuum Microengineering
Categoria: 
Cannoni ionici/elettronici per sputtering

Il Modello IG70-XY-DP è una sorgente di ioni ad alta precisione, progettata per offrire massima flessibilità e controllo grazie al sistema di aperture intercambiabili. Questa caratteristica permette di adattare il fascio ionico alle esigenze specifiche dell’utente, garantendo prestazioni ottimali in diverse applicazioni.

Caratteristiche principali

  • Aperture intercambiabili per regolazione del fascio ionico
  • Ampio intervallo di energia per versatilità d’uso
  • Elevata stabilità e coerenza del fascio
  • Basso degassamento, ideale per alto vuoto
  • Configurazione XY per un posizionamento preciso

Tra le applicazioni troviamo la spettroscopia e analisi di superfici, il puttering controllato e modifiche di materiali, la preparazione e caratterizzazione di campioni, l'applicazioni in fisica della materia e nanotecnologie. 

Grazie alla sua precisione, modularità e affidabilità, rappresenta una soluzione eccellente per laboratori di ricerca e industrie che richiedono controllo avanzato nelle applicazioni ioniche.

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Caratteristiche Tecniche

  • Intervallo di energia: da 0 a 5 keV.
  • Corrente del fascio: fino a 15 µA.
  • Dimensione del fascio: regolabile tramite aperture intercambiabili, con diametri da 2 a 20 mm.
  • Deflessione del fascio: sistema di deflessione X-Y per rasterizzazione del fascio ionico.
  • Pressione operativa: funzionamento a basse pressioni di gas, nell'ordine di 10⁻⁶ – 10⁻⁷ Torr.
  • Tipi di gas utilizzabili: gas nobili e reattivi.
  • Montaggio: flangia CF da 2,75" (70 mm di diametro esterno).
  • Bakeability: fino a 250°C sotto vuoto.
  • Dimensioni: diametro della lente di 29 mm e lunghezza del tubo di deriva variabile da 20 a 100 mm.
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