Schaefer SEE a NANOSEA 2026 – Nano-caratterizzazione d'avanguardia a Catania

All'evento presenteremo le ultime innovazioni di Concept Scientific Instruments (CSI), azienda francese leader nella microscopia a forza atomica avanzata. In particolare, mostreremo due tecnologie di riferimento per la nano-caratterizzazione elettrica:

• ResiScope™ III — un approccio innovativo alle misure di corrente/resistenza in AFM (c-AFM). A differenza dei setup c-AFM convenzionali, ResiScope™ III elimina i tipici artefatti come la saturazione di corrente, la carica di superficie e gli effetti capacitivi. La sua capacità più distintiva è la possibilità di misurare corrente e resistenza su 10 ordini di grandezza — da 50 pA a 1 mA — nella stessa area di scansione, senza alcuna modifica all'hardware o al software. Questo lo rende particolarmente adatto a campioni che combinano fasi altamente isolanti e altamente conduttive, come blend di polimeri organici, perovskiti o materiali 2D rilevanti per il fotovoltaico e le batterie allo stato solido.
• HD-KFM™ III — un'implementazione avanzata della Kelvin Force Microscopy (KFM) che offre sensibilità e risoluzione laterale significativamente migliorate per le misure di potenziale di superficie alla nanoscala. HD-KFM™ III potenzia anche la Magnetic Force Microscopy (MFM) annullando attivamente la componente elettrostatica delle interazioni a lungo raggio tra punta e campione (EFC), consentendo un vero disaccoppiamento dei contributi magnetici ed elettrostatici — una capacità fondamentale nella caratterizzazione di materiali magnetici soffici.

Insieme, queste due tecnologie rappresentano lo stato dell'arte nella nano-caratterizzazione elettrica ed elettrostatica, a supporto diretto della ricerca su materiali e dispositivi per l'energia di nuova generazione.